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半导体生产用超纯水设备工作原理

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2015-11-04 15:31:40

  半导体行业的生产对水质要求非常严格,莱特莱德半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术,保证设备出水水质符合行业用水需求。

超纯水设备

超纯水设备

  半导体生产用超纯水设备工作原理

  超纯水装置供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,树脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

超纯水设备

超纯水设备

  半导体生产用超纯水备工艺

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

  2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0。2或0。5μm精密过滤器-用水对象

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

  4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

超纯水设备

超纯水设备

  半导体生产用超纯水备特点

  1、选用高性能离子交换树脂,工作交换容量大,能耗低,使用寿命长。

  2、控制部分全部采用进口控制器,保障设备持续安全运行。

  3、全自动控制系统,出水稳定,使用操作方便快捷。

  4、结构合理,安装操作方便。

  5、可根据实际使用需求,水处理设备个性化设计相应设备。

超纯水设备

超纯水设备

  半导体生产用超纯水备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成,可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足半导体行业用水需求。

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