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半导体生产用超纯水设备工艺流程是什么

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2019-06-03 15:54:31

   半导体的生产过程中,涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯水,因为只有超纯水才能符合水质的标准,因此半导体生产用超纯水设备起到重要作用,已经得到广泛认可。下面为大家分享半导体生产用超纯水设备工艺流程:

半导体生产用超纯水设备工艺流程是什么

  原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0。22u膜过滤器→生产线用水点

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